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Glimmentladung f
Glimmentladung f

Beispiele aus dem Internet (nicht von der PONS Redaktion geprüft)

Eine hohle Transparentgitterkathode ( - ) ist von einer Anode ( + ) mit Erdpotential umgeben.

Das Anlegen einer sehr hohen Spannung an ein Gas mit niedrigem Druck wird eine Glimmentladung verursachen.

Die positiven Ionen ( als rote Punkte dargestellt ) werden von der Kathode angezogen.

nsd-fusion.com

A hollow transparent grid cathode ( - ) is surrounded by anode ( + ) at ground potential.

Applying a very high voltage to a low pressure gas will induce a glow discharge.

The positive ions ( shown as red spot ) are attracted to the cathode.

nsd-fusion.com

Trotz solcher Energieverlustmechanismen werden genügend Ionen zu kinetischen Energieniveaus über ~ 15 keV beschleunigt, wobei Fusionskollisionen passieren können.

Je höher die angelegte Spannung an die Glimmentladung ist, desto höher ist die Wahrscheinlichkeit einer Fusionskollision.

Mit einer genügenden Anzahl an Ionen können Ladungswolken einen Einfluss auf Ionenbahnen in der zentralen Reaktionskammer haben.

nsd-fusion.com

Despite such energy loss mechanisms sufficient ions do get accelerated to kinetic energy levels over ~ 15 keV where fusion collisions can occur.

The greater the applied voltage on the glow discharge, the greater is the probability of a fusion collision.

With sufficient numbers of ions, charge space effects can have an influence on the ion trajectories in the central volume.

nsd-fusion.com

Oleophob modifizierte Membran.

Die Plasma-Glimmentladung ist ein flexibles Werkzeug insbesondere für die chemische Oberflächenmodifizierung polymerer Membranen.

Mit der Plasmatechnologie können Materialien geätzt, (regioselektiv) funktionalisiert oder dünne Filme mit Dicken im Nanometer-Bereich abgeschieden werden, wobei nur geringe Mengen an Precursoren verbraucht werden.

www.igb.fraunhofer.de

Plasma modification

Plasma glow discharge is a versatile tool especially suitable for the chemical surface modification of polymeric membranes.

Using this technique, etching, (regioselective) functionalization or deposition of a thin film in the nanometer range is possible with only a very tiny consumption of precursor chemicals.

www.igb.fraunhofer.de

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