Das ermöglicht hohe Elektronenausbeuten ohne die Homogenität des elektrischen Feldes in der Ionenquelle zu beeinflussen.
Durch die Abschirmplatte wird außerdem die Hitze des Filaments von der Quelle ferngehalten wodurch die Temperaturhomogenität verbessert wird.
Das Resultat ist eine Ionenquelle ohne aktive Spots mit höchster Ionentransmission für unerreichte Empfindlichkeit selbst bei kritischen Komponenten (Patent:
www.shimadzu.deThe effect of the filament ’s electric potential on the ion source is reduced by placing more distance between the filament and ion source box.
In addition, a shield blocks out radiant heat generated from the filament to ensure the ion source box temperature remains uniform.
Since this prevents any active spots within the ion source, it provides higher sensitivity for analysis.
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