Das Sampling Intervall beträgt 1.4 nm zwischen 350-1000 nm und 2 nm zwischen 1000-2500 nm.
Zur Aufnahme der Spektren werden im VNIR 512 "silizium photo array" Elemente verwendet, im SWIR1 und SWIR2 Subsystem kommen TE(Thermo Electrically)-cooled INGaAs (Indium Gallium Arsenid) Photodioden mit beweglichen 15 Grad oszillierenden Gratings zum Einsatz.
www.eo.uni-jena.deThe sampling interval is 1.4 nm between 350-1000 nm and 2 nm between 1000-2500 nm. VNIR 512 ? silicium photo array ? elements are used for recording of the spectra.
TE(Thermo Electrically)-cooled INGaAs (Indium Gallium Arsenid) photodiodes with moveable 15 degree oscillating gratings are applied for the SWIR1 and SWIR2 subsystems.
www.eo.uni-jena.deHier hilft ein Trick, der mit dem Atomabstand im Kristallgitter zu tun hat :
Elektronen halten sich lieber in Indium-Arsenid (InAs) auf als in Gallium-Arsenid (GaAs).
Da Indium ein wesentlich größeres Atom als Gallium ist, muss man sich eine Schichtung einer InAs-Schicht auf GaAs etwa so vorstellen, wie wenn man Orangen auf Mandarinen schichtet:
aktuell.ruhr-uni-bochum.deHere is a little useful trick that relates to the inter-atomic distance in the crystal lattice :
Electrons prefer residing in indium arsenide (InAs) than in gallium arsenide (GaAs).
Since indium is a considerably larger atom than gallium, one can sonsider the compressive stress of an InAs layer on GaAs in the same way as when stacking oranges on top of mandarins.
aktuell.ruhr-uni-bochum.deStatt Chip für Chip zu transferieren, über- trägt ein spezielles Druckmodul bis zu 1000 Zellen pro Arbeits- schritt.
Die Solarzellen selbst basieren auf mehreren Schichten lichtabsorbierender III-V-Halbleiter wie Gallium-Arsenid.
Diese Technologie erreichte im Labor bereits einen Wirkungsgrad von mehr als 40 Prozent.
www.siemens.comInstead of transferring them chip for chip, a special printing module applies up to 1,000 cells per step.
The solar cells themselves are based on multiple layers of light-absorbing III-V semiconductors like gallium arsenide.
This technology has already attained an efficiency rating of more than 40 percent in the laboratory.
www.siemens.comThe sampling interval is 1.4 nm between 350-1000 nm and 2 nm between 1000-2500 nm. VNIR 512 ? silicium photo array ? elements are used for recording of the spectra.
TE(Thermo Electrically)-cooled INGaAs (Indium Gallium Arsenid) photodiodes with moveable 15 degree oscillating gratings are applied for the SWIR1 and SWIR2 subsystems.
www.eo.uni-jena.deDas Sampling Intervall beträgt 1.4 nm zwischen 350-1000 nm und 2 nm zwischen 1000-2500 nm.
Zur Aufnahme der Spektren werden im VNIR 512 "silizium photo array" Elemente verwendet, im SWIR1 und SWIR2 Subsystem kommen TE(Thermo Electrically)-cooled INGaAs (Indium Gallium Arsenid) Photodioden mit beweglichen 15 Grad oszillierenden Gratings zum Einsatz.
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