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Übersetzungen für „mN“ im Deutsch » Englisch-Wörterbuch
(Springe zu Englisch » Deutsch)Beispiele aus dem Internet (nicht von der PONS Redaktion geprüft)
Es sollte der grundlegende Einfluss der Vorbehandlung der Substrate, der Beladung des Reaktors sowie der Beschichtungsparameter ( Substrattemperatur, Leistungsdichte, Prozessdruck, Pulszeiten und Gas-zusammensetzung ), auf die Schichteigenschaften ( Mikrostruktur, Elementgehalt und mechanische Eigenschaften ) untersucht und diskutiert werden.
Die Oberflächenspannungen der a-C:H:Si-Schichten liegen im Bereich von 30 mN/m und sind hauptsächlich von der Oberflächenrauhigkeit abhängig.
Im Vergleich zu unbehandelten, plasmanitrocarburierten oder postoxidierten Proben konnte der Reibungskoeffizient der abgeschiedenen a-C:H:Si-Schichten wesentlich reduziert (µ ≈ 0,05) werden.
research.fh-ooe.atThe effects caused by the pre-treatment of the substrates, the loading of the reactor and the deposition parameters ( substrate temperature, power density, process pressure, pulse times, gas composition ) on the coating properties ( microstructure, chemical composition and mechanical properties ) were examined and discussed.
The surface tensions of the a-C:H:Si layers lie in the range of 30 mN/m and are strongly depending on the surface roughness.
Compared to untreated, nitrided or post oxidized samples the coefficient of friction could be substantially reduced (µ ≈ 0,05) by a-C:H:Si-coatings.
research.fh-ooe.atZur Rückführung werden statt herkömmlicher Belastungskörper moderne elektromagnetisch kompensierte Wägezellen verwendet.
So können Kraftaufnehmer im Bereich von 1 mN bis 2 N mit bekannter Messunsicherheit kalibriert werden.
www.ptb.deFor traceability, modern electromagnetically compensated load cells are used instead of conventional loads.
This allows force transducers to be calibrated with known measurement uncertainty in the range from 1 mN to 2 N.
www.ptb.deAus allen bekannten Einflüssen wurde rechnerisch die Messunsicherheit ermittelt.
Mit der verwendeten Wägezelle erscheinen Kraftstufen von 1 mN bis zu 2 N sinnvoll, da eine Messunsicherheit bis unter 1 µN erreicht werden kann.
Bild 2 zeigt das Ergebnis von Messungen des Kennwertes eines Kraftaufnehmers über zwei Wochen und bei verschiedenen Justagebedingungen.
www.ptb.deThe measurement uncertainty was determined computationally from all known influences.
With the load cell used, force steps from 1 mN to 2 N seem to be reasonable, because a measurement uncertainty below 1 µN can be achieved.
Figure 2 shows the result of measurements of the characteristic of a force transducer over two weeks and for different adjustment conditions.
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The effects caused by the pre-treatment of the substrates, the loading of the reactor and the deposition parameters ( substrate temperature, power density, process pressure, pulse times, gas composition ) on the coating properties ( microstructure, chemical composition and mechanical properties ) were examined and discussed.
The surface tensions of the a-C:H:Si layers lie in the range of 30 mN/m and are strongly depending on the surface roughness.
Compared to untreated, nitrided or post oxidized samples the coefficient of friction could be substantially reduced (µ ≈ 0,05) by a-C:H:Si-coatings.
research.fh-ooe.atEs sollte der grundlegende Einfluss der Vorbehandlung der Substrate, der Beladung des Reaktors sowie der Beschichtungsparameter ( Substrattemperatur, Leistungsdichte, Prozessdruck, Pulszeiten und Gas-zusammensetzung ), auf die Schichteigenschaften ( Mikrostruktur, Elementgehalt und mechanische Eigenschaften ) untersucht und diskutiert werden.
Die Oberflächenspannungen der a-C:H:Si-Schichten liegen im Bereich von 30 mN/m und sind hauptsächlich von der Oberflächenrauhigkeit abhängig.
Im Vergleich zu unbehandelten, plasmanitrocarburierten oder postoxidierten Proben konnte der Reibungskoeffizient der abgeschiedenen a-C:H:Si-Schichten wesentlich reduziert (µ ≈ 0,05) werden.
research.fh-ooe.atFor traceability, modern electromagnetically compensated load cells are used instead of conventional loads.
This allows force transducers to be calibrated with known measurement uncertainty in the range from 1 mN to 2 N.
www.ptb.deZur Rückführung werden statt herkömmlicher Belastungskörper moderne elektromagnetisch kompensierte Wägezellen verwendet.
So können Kraftaufnehmer im Bereich von 1 mN bis 2 N mit bekannter Messunsicherheit kalibriert werden.
www.ptb.deThe measurement uncertainty was determined computationally from all known influences.
With the load cell used, force steps from 1 mN to 2 N seem to be reasonable, because a measurement uncertainty below 1 µN can be achieved.
Figure 2 shows the result of measurements of the characteristic of a force transducer over two weeks and for different adjustment conditions.
www.ptb.deAus allen bekannten Einflüssen wurde rechnerisch die Messunsicherheit ermittelt.
Mit der verwendeten Wägezelle erscheinen Kraftstufen von 1 mN bis zu 2 N sinnvoll, da eine Messunsicherheit bis unter 1 µN erreicht werden kann.
Bild 2 zeigt das Ergebnis von Messungen des Kennwertes eines Kraftaufnehmers über zwei Wochen und bei verschiedenen Justagebedingungen.
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