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Übersetzungen für „NVM“ im Deutsch » Englisch-Wörterbuch (Springe zu Englisch » Deutsch)

Beispiele aus dem Internet (nicht von der PONS Redaktion geprüft)

DMA-Controller für Datentransfers ohne CPU Intervention

Firmware-Programmierung und NVM Zugriff via USB mit Hilfe des EZ-USB FX2 SDK ( keine Programmierkabel erforderlich )

128 KByte Flash + 2 KByte EEPROM

www.ztex.de

DMA controller for data transfers without CPU intervention

Firmware programming and NVM access via USB using the EZ-USB FX2 SDK ( no programming cables required )

128 KByte Flash + 2 KByte EEPROM

www.ztex.de

Mit der technischen Möglichkeit die Ferroelektrizität in voll CMOS-kompatiblen HfO2 -Dielektrika zu implementieren, konnte ein Konsortium aus GLOBALFOUNDRIES, NaMLab gGmbH und dem Fraunhofer IPMS-CNT zeigen, dass die Skalierungslücke erstmals seit der Einführung des FeFETs-Konzepts in einem 28 nm- Technologieknoten geschlossen werden konnte.

Ausgezeichnete Ergebnisse auf 300 mm, Schaltungen im Nanosekundenbereich sowie eine 10-Jahre-Speicherungsfähigkeit wurden mit dem ersten Silizium bereits erreicht und die Ausdauereigenschaften entsprechen dabei dem gegenwärtigen Niveau von Nichtflüchtigen Speichern (NVM).

Das High-k Team am Center Nanoelectronic Technologien arbeitet gegenwärtig an weiteren Verbesserungen und der Umsetzung für die Halbleiterindustrie.

www.ipms.fraunhofer.de

With the ability of engineering ferroelectricity in the well-known and fully CMOS-compatible HfO2 based dielectrics, a consortium of researchers from GLOBALFOUNDRIES, NaMLab gGmbH, and Fraunhofer IPMS-CNT is able to demonstrate that the two order of magnitude scaling gap, prevailing ever since the introduction of FeFETs, is finally closed at the 28 nm technology node.

Excellent 300 mm yield, switching in the nanosecond range, and 10-year retention were achieved with first silicon.The endurance characteristics are matching the demands of current NVMs utilizing wear leveling.

The High-k team at Center Nanoelectronic Technologies is working on the implementation and further improvements for the semiconductor industry.

www.ipms.fraunhofer.de

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